第十届国际铁氧体会议(ICF10)简介
第十届国际铁氧体会议于2008年10月10日至13日在成都市加州花园大酒店召开国际铁氧体会议每四年举办一次，这是第一次在中国召开。西南应用磁学研究所为地方承办单位。与会代表共250余人。主要参会者为国内外研究人员、高校师生和企业界人士。国外代表80余人 ，主要来自日本、印度和西欧等一些国家。国际铁氧体会议国际委员会（ICFIC）主席、日本的Mitsuo Sogimito教授任名誉主席，西磁所所长陈浩任大会主席，西磁所马达任大会秘书长。
Mitsuo Sogimito在欢迎词中回顾了自1970年第一届国际铁氧体会议以来铁氧体工业及铁氧体的应用与研究所经历的兴盛与衰退。1970- 1989年(ICF1-ICF5)，由于美国电子工业和汽车工业的发展，这二十年间是铁氧体产业发展的黄金时期。1992年以后，随着电视和通讯器材已达到产量高峰，软磁铁氧体的全球市场日趋饱和，再加上记忆磁芯被半导体存储器所替代、磁记录被磁光记录所取代，铁氧体工业便走了下坡路。高Br、高Hc的SmCo5 和 NdFeB磁体的开发，造成了对永磁铁氧体的进一步冲击......
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